為推進高新區國家創新型科技園區建設，進一步提升區域自主創新能力，日前，高新區管委會對2008年出臺的專利專項資金管理辦法進行了修訂，修訂共有6大內容。
主要修改內容包括：一是對外觀和實用新型專利的資助從原有申請即資助調整為授權后再資助，以進一步提高專利申請質量，最大限度減少非正常專利申請。二是將發明專利的資助額度提高至一萬元每件，提高發明專利占比。三是對國外專利進行資助，幫助企業保護自身合法權益，開拓國外市場，促進全區開放型經濟進一步發展。四是提高企業專利大戶獎勵額度，鼓勵企業進一步提高專利創造的數量和質量。五是鼓勵區內企事業單位培養專利人才，對通過國家專利代理人資格考試和省知識產權工程師考試給予一定獎勵。六是對區內企事業單位制定和實施知識產權戰略給予一定資助，用于建立知識產權制度、專利數據庫等，從而推動企業知識產權工作規范管理。
新的專利專項資金管理辦法較以前更為嚴謹，更也更具操作性，對推動高新區企業自主創新，促進全區專利量質并舉發揮重要的政策引領作用。
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